Detail Cantuman
Pencarian Spesifik
Artikel
Pengaruh rasio laju alir gas Oksigen dan Argon pada struktur kristal film Ta2O5 ditumbuhkan dengan DC Magnetron Sputtering.
Tidak Tersedia Deskripsi
Ketersediaan
Tidak ada salinan data
Informasi Detail
| Judul Seri |
-
|
|---|---|
| No. Panggil |
-
|
| Penerbit | FMIPA-UNNES : Semarang., 2005 |
| Deskripsi Fisik |
-
|
| Bahasa | |
| ISBN/ISSN |
-
|
| Klasifikasi |
-
|
| Tipe Isi |
-
|
| Tipe Media |
-
|
|---|---|
| Tipe Pembawa |
-
|
| Edisi |
-
|
| Subjek |
-
|
| Info Detail Spesifik |
-
|
| Pernyataan Tanggungjawab |
-
|
Versi lain/terkait
Tidak tersedia versi lain